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MOS管開通的過程詳細(xì)介紹
  • 發(fā)布時(shí)間:2024-12-23 18:01:23
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MOS管開通的過程詳細(xì)介紹
MOS管不同于三極管,它屬于電壓控制型器件,但是實(shí)際上MOS管在從關(guān)斷到導(dǎo)通的過程中,也是需要電流的,這是因?yàn)镸OS管各極之間存在寄生電容Cgd,Cgs以及Cds。
MOS管的規(guī)格書參數(shù)對(duì)應(yīng):
Cgd=Crss;
Cds=Coss-Crss;
Cgs=Ciss-Crss
MOS管開通過程
首先MOS管的導(dǎo)通條件,是Vgs電壓至少需要達(dá)到閾值電壓Vgs(th),它通過柵極電荷對(duì)Cgs電容進(jìn)行充電。當(dāng)MOS管完全導(dǎo)通后就不需要提供電流了。
那么,MOS管具體的開通過程是怎樣的呢?
一般分為四個(gè)階段
MOS管開通過程
T1階段:
驅(qū)動(dòng)開通脈沖通過mos管的柵-源極對(duì)輸入電容Cgs充電,開啟時(shí)Vgs電壓=閾值電壓Vth,在此之前,mos管處于關(guān)斷狀態(tài)。此時(shí)只有很小的電流經(jīng)過mos管,Vds的電壓Vdd保持不變
T2階段:
當(dāng)Vgs電壓達(dá)到閾值電壓Vth時(shí),電流ID開始流過漏極,Vgs電壓繼續(xù)上升,電流也逐漸上升。這時(shí)的Vds電壓依舊保持Vdd不變。
當(dāng)Vds電壓到達(dá)米勒平臺(tái)電壓Vgp時(shí),電流ID上升到負(fù)載電流的最大值ID,這時(shí),Vds電壓開始從Vdd下降。
T3階段:
現(xiàn)在就到了重要的米勒平臺(tái)了。
米勒期間電流ID保持負(fù)載ID不變,Vds電壓不斷降低。米勒平臺(tái)的高度受負(fù)載電流的影響,當(dāng)負(fù)載電流越大,電流ID到達(dá)的時(shí)間就越長(zhǎng),也就導(dǎo)致了更高的米勒平臺(tái)電壓Vgp。
T4階段:
當(dāng)米勒平臺(tái)結(jié)束時(shí),Vgs電壓繼續(xù)降低,但此時(shí)它降低的幅度很小。最后穩(wěn)定。
一般在米勒平臺(tái)結(jié)束以后,可以認(rèn)為mos管基本已經(jīng)導(dǎo)通。
MOS管開通過程
為什么會(huì)造成彌勒平臺(tái)?
因?yàn)镸OS開通時(shí),Vd>Vg,Vgd先通過MOS管放電,再反向充電,奪取了給Cgs充電的電流,造成Vgs電壓不變,所以造成米勒平臺(tái)。也就是說,如果想要減少開通損耗,就要盡可能的減少米勒平臺(tái)的時(shí)間。
這是MOS管的開通過程了,下期我們來(lái)講mos管的關(guān)斷過程。
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